特許

J-GLOBAL ID：201203079979751679

薄膜型光吸収膜

発明者： 布山 美慕 ,  井上 恭明
出願人/特許権者： ナルックス株式会社
代理人 (1件)： 伏見 直哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-213882
公開番号（公開出願番号）：特開2012-068476
出願日： 2010年09月24日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：

【課題】光を吸収する薄膜の多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、高温環境下または高湿環境下において使用しても光吸収特性が劣化せず、簡単な製造プロセスによって製造することのできる薄膜型光吸収膜を提供する。【解決手段】本発明の一態様による薄膜型光吸収膜は、基板(101)上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層(103)と、誘電体からなる誘電体層(105)と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、40ナノメータ以上で100ナノメータよりも小さく、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成している。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

基板上に形成された多層膜からなる薄膜型光吸収膜であって、該多層膜は、四酸化三鉄からなる酸化鉄層と、誘電体からなる誘電体層と、を含み、該酸化鉄層の厚さは、40ナノメータ以上で100ナノメータよりも小さく、該酸化鉄層及び該誘電体層が、反射防止層を形成する薄膜型光吸収膜。

IPC (3件)：

G02B 5/22 ,  G02B 1/11 ,  G02B 3/00

FI (3件)：

G02B5/22 ,  G02B1/10 A ,  G02B3/00 Z

Fターム (7件)：

2H048CA05 ,  2H048CA12 ,  2H048CA14 ,  2H048CA20 ,  2K009AA12 ,  2K009CC03 ,  2K009DD03

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 光吸収・放射膜および光吸収・放射体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-117905   出願人：第一メテコ株式会社, 株式会社東芝
• 多層膜フィルタ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-164794   出願人：スタンレー電気株式会社
• 熱吸収材、蓄熱体、及びそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-291894   出願人：北海道ティー・エル・オー株式会社, 野村興産株式会社
• 特許第4568810号