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文献
J-GLOBAL ID:201302235626369156   整理番号:13A1095945

高圧下で実現した電子ドープ銅酸化物の最適Tc

Optimal Tc for Electron-Doped Cuprate Realized under High Pressure
著者 (7件):
資料名:
巻: 82  号:ページ: 063705.1-063705.4  発行年: 2013年06月15日 
JST資料番号: G0509A  ISSN: 0031-9015  CODEN: JUPSA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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超伝導性銅酸化物でより高い臨界温度(Tc)を得るレースは,これが正孔ドープ3層銅酸化物において高圧下で最適化されたため,止まっているように見える。反強磁性臨界点付近において,電子ドープ無限大層銅酸化物Sr0.9La0.1CuO2で高圧下において異常にTcが上昇することを報告する。15GPaの圧力をかけると,Tcは45Kへ上昇した。これは電子ドープ銅酸化物の中で最も高い温度であり,非従来型の超伝導を保証する。Sr1-xLaxCuO2の電子状態図を記述して,反強磁性秩序と超伝導との関係を論じた。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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酸化物系超伝導体の物性 
タイトルに関連する用語 (5件):
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