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J-GLOBAL ID：201302296780962772   整理番号：13A0853054

トップダウン加工GaAsナノディスクにおけるキャリアスピン緩和

著者 (20件)： 木場隆之 (北大 大学院) ,  木場隆之 (JST-CREST) ,  須崎健太 (北大 大学院) ,  田村洋典 (東北大 流体科研) ,  田村洋典 (JST-CREST) ,  五十嵐誠 (東北大 流体科研) ,  五十嵐誠 (JST-CREST) ,  THOMAS C. (東北大 流体科研) ,  THOMAS C. (JST-CREST) ,  HU W. (東北大 流体科研) ,  HU W. (JST-CREST) ,  海津利行 (神戸大 大学院) ,  海津利行 (JST-CREST) ,  岡田至崇 (東大 先端科学技研セ) ,  岡田至崇 (JST-CREST) ,  寒川誠二 (東北大 流体科研) ,  寒川誠二 (東北大 WPI-AIMR) ,  寒川誠二 (JST-CREST) ,  村山明宏 (北大 大学院) ,  村山明宏 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 60th  ページ： ROMBUNNO.30A-G20-8  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *キャリア ,  *磁気緩和 ,  *ヒ化ガリウム ,  *ナノ構造 ,  *記憶媒体 ,  化合物半導体 ,  量子ドット ,  型枠 ,  円偏光 ,  光 ,  励起 ,  *光ルミネセンス ,  鉄 ,  ポリエチレンオキシド ,  フェリチン ,  中性粒子ビーム ,  エッチング ,  MBE成長 ,  Stokes線 ,  高速度カメラ ,  ヒ化ガリウムアルミニウム ,  障害物 ,  量子閉込め ,  超分子 ,  加工
準シソーラス用語： スピン緩和 ,  テンプレート【型板】 ,  *トップダウン加工 ,  *ナノディスク ,  バイオテンプレート ,  パルス光 ,  時間分解光ルミネセンス ,  生体超分子 ,  中性ビーム

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  13-15族化合物を含む半導体-半導体接合  (BM03082Y) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (5件)： トップダウン ,  GaAs ,  ナノディスク ,  キャリア ,  スピン緩和