特許
J-GLOBAL ID：201303005194044437
透光性基材の表面平坦化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安彦 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-003731
公開番号（公開出願番号）：特開2013-143169
出願日： 2012年01月12日
公開日（公表日）： 2013年07月22日
要約：
【課題】平坦化すべき被処理面の全体的な形状を保持したまま、CMPやエッチングガスを用いることなくナノスケールの平坦性を短時間で実現することを可能とする。【解決手段】透光性基材の表面に形成された微小凸部を平坦化するための透光性基材の表面平坦化方法において、前記透光性基材の平坦化すべき被処理面に光吸収性材料を塗布して光吸収性膜を形成する塗布工程と、前記光吸収性膜に対してパルス状の照明光を繰り返し照射するパルス照射工程とを有する。パルス照射工程では、前記光吸収性膜における照明光の光吸収により発生する熱エネルギーによって当該光吸収性膜を蒸発させながら、前記微小凸部に対する照明光の照射により発生した近接場光と前記熱エネルギーとに基づく光化学反応によって当該微小凸部を除去する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
透光性基材の表面に形成された微小凸部を平坦化するための透光性基材の表面平坦化方法において、
前記透光性基材の平坦化すべき被処理面に光吸収性材料を塗布して光吸収性膜を形成する塗布工程と、
前記光吸収性膜に対してパルス状の照明光を繰り返し照射するパルス照射工程とを有し、
前記パルス照射工程では、前記光吸収性膜における照明光の光吸収により発生する熱エネルギーによって当該光吸収性膜を蒸発させながら、前記微小凸部に対する照明光の照射により発生した近接場光に基づく光化学反応によって当該微小凸部を除去すること
を特徴とする透光性基材の表面平坦化方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (8件)：
4G059AA08
, 4G059AC03
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA03
, 5D112BA09
, 5D112GA02
, 5D112GA19
