特許

J-GLOBAL ID：201403055598055380

微細構造ゲルの製造方法

発明者： 柴田 秀彬 ,  竹内 昌治 ,  許 允禎
出願人/特許権者： テルモ株式会社 ,  国立大学法人 東京大学
代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2012050196
公開番号（公開出願番号）：WO2012-098942
出願日： 2012年01月06日
公開日（公表日）： 2012年07月26日
要約：

【課題】本発明は、大掛かりな設備を必要とすることなく、非常に簡便な方法で短時間に大量に製造できる微細な高分子ゲルの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、表面に微細な溝から構成されるパターンを有する基体の該表面の一部に重合性モノマー成分を含む重合性モノマー水溶液を滴下させる工程と、 前記パターンを構成する溝内に沿って重合性モノマー水溶液を毛細管現象により移動させる工程と、 前記溝内の重合性モノマー水溶液を重合する工程と、を含む、パターンに従った形状の微細構造ゲルの製造方法である。

請求項（抜粋）：

表面に微細な溝から構成されるパターンを有する基体の該表面の一部に重合性モノマー成分を含む重合性モノマー水溶液を滴下させる工程と、 前記パターンを構成する溝内に沿って重合性モノマー水溶液を毛細管現象により移動させる工程と、 前記溝内の重合性モノマー水溶液を重合する工程と、を含む、パターンに従った形状の微細構造ゲルの製造方法。

IPC (4件)：

C08F 2/10 ,  B81C 99/00 ,  C08F 26/00 ,  C08F 20/52

FI (4件)：

C08F2/10 ,  B81C99/00 ,  C08F26/00 ,  C08F20/52

Fターム (34件)：

3C081BA12 ,  3C081CA25 ,  3C081CA40 ,  3C081DA10 ,  3C081EA39 ,  4J011BB12 ,  4J011HA02 ,  4J011HB11 ,  4J011HB14 ,  4J011QA06 ,  4J011QA13 ,  4J011QA18 ,  4J100AL08P ,  4J100AL62Q ,  4J100AL66P ,  4J100AL66Q ,  4J100AL67Q ,  4J100AM15P ,  4J100AM17P ,  4J100AM19P ,  4J100AM23Q ,  4J100AM24Q ,  4J100AN04P ,  4J100AP07Q ,  4J100AQ20Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA08P ,  4J100BA08Q ,  4J100BA14P ,  4J100BA64Q ,  4J100BC65P ,  4J100CA04 ,  4J100JA28 ,  4J100JA50