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J-GLOBAL ID：201502251664347387   整理番号：15A0531833

共焦点型蛍光X線分析法による置換めっきプロセスのモニタリング

Confocal Micro XRF Monitoring of Displacement Plating Process

著者 (4件)： 北戸雄大 (大阪市大 大学院工学研究科) ,  平野新太郎 (大阪市大 大学院工学研究科) ,  米谷紀嗣 (大阪市大 大学院工学研究科) ,  辻幸一 (大阪市大 大学院工学研究科)
資料名： X線分析の進歩  (X線工業分析)
巻： 46  ページ： 269-276  発行年： 2015年03月31日 
JST資料番号： Z0547B  ISSN： 0911-7806  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 蛍光X線分析法(XRF)は非破壊的に試料の分析が可能な手法であり,工業材料の分析など多くの応用例がある。共焦点型蛍光X線分析装置ではX線管および検出器の先端部にポリキャピラリーX線レンズを取り付けることで,特定の微小領域の蛍光X線のみを検出することができる。本研究室で作製した共焦点型蛍光X線分析装置の焦点位置における空間分解能はAuLβ線(11.4keV)で約44μmである。この共焦点型蛍光X線分析装置を用いて,置換めっきプロセスのモニタリングを試みた。鋼板表面での繰り返し点分析,固液界面近傍の繰り返し線分析を行うことで蛍光X線強度分布の時間変化を追うことができた。また,反応後の鋼板の2次元マッピングを取得することで,置換めっきの不均質性を確認することができた。(著者抄録)

シソーラス用語： *共焦点レーザ顕微鏡 ,  *蛍光X線分析 ,  *無電解めっき ,  X線回折 ,  微量分析 ,  固液界面 ,  空間分解能 ,  監視
準シソーラス用語： モニタリング ,  *共焦点蛍光顕微鏡 ,  *置換めっき ,  微小部X線回折

分類 (4件)： その他の物理分析  (CC03014E) ,  顕微鏡法  (BK01040E) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  化学分析一般  (CC07010Q)

引用文献 (18件)：

• W. M. Gibson, M. A. Kumakhov: Proc. SPIE, 1736, 172 (1992).
• M. A. Kumakhov: X-Ray Spectrom., 29, 343 (2000).
• X. Ding, N. Gao, G. Havrilla: Proc. SPIE, 4144, 174 (2000).
• B. Kanngieβer, W. Malzer, I. Reiche: Nuct Instr. and Meth. B, 211, 259 (2003).
• G. J. Havrilla, T. Miller: Powder Diffr., 19, 119 (2004).

タイトルに関連する用語 (5件)： 共焦点 ,  蛍光X線分析法 ,  置換めっき ,  プロセス ,  モニタリング