特許
J-GLOBAL ID:201503006793910730

中空ナノ粒子の製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-540511
特許番号:特許第5799362号
出願日: 2010年11月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】(a)第1の金属と該第1の金属よりも酸化されにくい第2の金属とをイオン液体に蒸着することにより、前記第1及び第2の金属からなる合金の中実ナノ粒子が分散したイオン液体を得る工程と、 (b)前記中実ナノ粒子が分散したイオン液体を、酸化ガスを含有するガス雰囲気中で酸化することにより、前記中実ナノ粒子のコア部分が空洞になると共に該空洞に前記第2の金属の粒子が残ったジングルベル型構造の中空ナノ粒子を得る工程と、 を含み、 前記第1の金属はAl,In又はGaであり、前記第2の金属はAu,Pt,Pd,Rh,Ru又はIrである、 中空ナノ粒子の製法。
IPC (5件):
C01B 13/32 ( 200 6.01) ,  B82Y 40/00 ( 201 1.01) ,  B82Y 30/00 ( 201 1.01) ,  C01G 15/00 ( 200 6.01) ,  C01G 7/00 ( 200 6.01)
FI (5件):
C01B 13/32 ,  B82Y 40/00 ,  B82Y 30/00 ,  C01G 15/00 B ,  C01G 7/00
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献:
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