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J-GLOBAL ID:201602225578243620   整理番号:16A0640051

放射光利用について 放射光を用いた高分子成形加工プロセスの観察

著者 (1件):
資料名:
巻: 86  号:ページ: 692-697  発行年: 2016年08月01日 
JST資料番号: F0157A  ISSN: 0368-6337  CODEN: KNZKA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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せん断印加中の高分子鎖の構造変化は,注目度が高い。これまでに,せん断印加後の高分子結晶成長プロセスの放射光を利用した分割小角・広角同時X線散乱(SAXS,WAXS)測定を行い,高分子量成分がシシケバブ構造形成において大きな役割を果たすこトなどが示された。本稿では,実際の製品として用いられる高分子の代表例の一つとして,結晶性高分子のアイソタクチックポリプロピレン(iPP)を利用した実験結果を報告した。結晶性高分子の成形加工中のプロセスの内で,「せん断印加中の配向構造形成プロセス」を,SAXSとWAXSを用いて追跡した。その結果,比較的大きい配向構造が出現した後,せん断方向に配列した結晶ラメラ構造が存在していることが分かった。また,広角X線散乱より,せん断流動中の結晶化度の増大,および停止後の減少,その後の増加が観測された。これらは,せん断によって配向した分子鎖の存在による,エントロピーの変化で説明できた。
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分類 (3件):
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高分子溶液・融液のレオロジー  ,  高分子の物性一般  ,  電磁場中の粒子の運動及び放射 
タイトルに関連する用語 (5件):
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