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J-GLOBAL ID：201602256177928189   整理番号：16A1176358

ミクロ磁区の動的観察と磁区パターンシミュレーション

著者 (9件)： 安江常夫 (大阪電通大 エレクトロニクス基礎研) ,  工藤和恵 (お茶の水女大 理) ,  鈴木雅彦 (大阪電通大 エレクトロニクス基礎研) ,  阿久津典子 (大阪電通大 エレクトロニクス基礎研) ,  小島一樹 (大阪大 大学院工学研究科) ,  DINO W. A. (大阪大 大学院工学研究科) ,  笠井秀明 (大阪大 大学院工学研究科) ,  BAUER E. (アリゾナ州大) ,  越川孝範 (大阪電通大 エレクトロニクス基礎研)
資料名： FERI Activity Report  (FERI Activity Report)
巻： 26  ページ： 61-67  発行年： 2016年03月31日 
JST資料番号： L6016A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高輝度・高スピン偏極低エネルギー電子顕微鏡(SPLEEM)を用いてCo/Ni積層膜形成過程における磁区観察を行った。基板上の第1層目のNiの蒸着は,基板温度を400~500°Cにして行い,第2層目のNi以降の蒸着は,基板温度を室温にして行った。磁区パターンのシミュレーションはLandau-Lifshitz-Gilbert方程式を用いて行い,この系の垂直磁化発現過程について検討した。実験結果は,シミュレーションによってよく再現され,磁区パターンの形成過程において磁気異方性がどのように変化するかについて検討を行うことが可能となった。最後に,Dzyaloshinskii-Moriya相互作用(DMI)を取り入れた場合の磁壁の振舞について述べた。

シソーラス用語： *磁区 ,  シミュレーション ,  方程式 ,  垂直磁化 ,  磁気異方性 ,  スピン-軌道相互作用 ,  交換相互作用 ,  磁壁 ,  多層膜
準シソーラス用語： Landau-Lifshitz-Gilbert方程式 ,  Dzyaloshinskii-Moriya相互作用 ,  積層膜

分類 (1件)： 金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D)

タイトルに関連する用語 (3件)： 磁区 ,  観察 ,  シミュレーション