文献

J-GLOBAL ID：201702244369154359   整理番号：17A1138428

フェムト秒極端紫外レーザー光による有機薄膜のアブレーションに関する研究

著者 (22件)： 坂上和之 (早大 高等研) ,  石野雅彦 (量研 関西研) ,  井谷俊郎 (EIDEC) ,  犬伏雄一 (JASRI) ,  市丸智 (NTT-AT) ,  大和田成起 (RIKEN) ,  小倉拓人 (宇大 院) ,  木下博雄 (兵庫県大) ,  小柴裕也 (早大 理工研) ,  今亮 (JASRI) ,  SANTILLAN Julius Joseph (EIDEC) ,  篠崎夏美 (宇大 院) ,  高橋孝 (早大 理工研) ,  田村賢紀 (宇大 院) ,  HUNG Dinh Thanh (量研 関西研) ,  錦野将元 (量研 関西研) ,  西留武宏 (早大 理工研) ,  羽多野忠 (東北大 多元物質科研) ,  原広行 (宇大 院) ,  東口武史 (宇大 院) ,  山内駿 (宇大 院) ,  鷲尾方一 (早大 理工研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.5a-S44-6  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フェムト秒 ,  *フェムト秒レーザ ,  *極端紫外線 ,  レーザビーム ,  *レーザアブレーション ,  紫外レーザ ,  パルスレーザ照射 ,  *X線自由電子レーザ ,  放射光施設 ,  フォトレジスト ,  高分子薄膜 ,  ポリメタクリル酸メチル
準シソーラス用語： SACLA【レーザ】 ,  EUVレジスト

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  その他のレーザ  (BD04090H)

タイトルに関連する用語 (6件)： フェムト秒 ,  極端紫外 ,  レーザー光 ,  有機薄膜 ,  アブレーション ,  研究