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J-GLOBAL ID：201702273343121982   整理番号：17A0434647

平板支持体上に合成したZSM-5膜の製膜状態

著者 (4件)： 酒井求 (早大 先進理工) ,  萩原瑞基 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工研)
資料名： 化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会年会(CD-ROM))
巻： 82nd  ページ： ROMBUNNO.PD340  発行年： 2017年03月06日 
JST資料番号： X0547B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜 ,  省エネルギー ,  アルミナ ,  多孔質体 ,  *アルキルベンゼン ,  炭化水素 ,  水熱合成 ,  経時変化 ,  成長速度 ,  化学組成 ,  高分子分離膜 ,  *膜分離
準シソーラス用語： *キシレン系 ,  *ゼオライト膜 ,  多孔質アルミナ

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： 平板 ,  ZSM-5 ,  製膜