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J-GLOBAL ID:201902228649144942   整理番号:19A0006362

超流動ヘリウム中レーザーアブレーションによる半導体微粒子作製とそのダイナミクス

Fabrication of semiconductor nanoparticles via laser ablation in superfluid helium and its dynamics
著者 (3件):
資料名:
巻: 28th  ページ: 147-150  発行年: 2017年 
JST資料番号: L3956A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (1件):
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半導体の結晶成長 
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