文献

J-GLOBAL ID：200902210063053801   整理番号：08A1178102

fcc下地層がエピタキシャルNi(111)薄膜の形成に及ぼす効果

Effects of fcc Underlayer on the Formation of Ni(111) Epitaxial Thin Films

著者 (4件)： 西山努 (中央大 理工) ,  大竹充 (中央大 理工) ,  桐野文良 (東京芸術大 大学院美術研究科) ,  二本正昭 (中央大 理工)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 108  号： 234(MR2008 19-29)  ページ： 13-18  発行年： 2008年10月02日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： fcc(111)単結晶下地層上でNi薄膜を形成し,下地層や基板温度がエピタキシャルNi薄膜の形成に及ぼす効果について調べた。Cu(111)_fcc,Au(111)_fcc,Ag(111)_fccいずれの下地層上においてもエピタキシャルNi(111)_fcc薄膜が得られた。Ni薄膜の格子歪みは下地層材料や基板温度により影響された。CuおよびAu下地層上では,界面付近で下地層の原子がNi層へ拡散することによって格子歪みを含むNi薄膜が形成された。基板温度の上昇に伴い下地層原子のNi層への拡散が促されることが分かった。一方,Ag下地層上では格子歪みの少ないNi薄膜が得られた。またこの系では,下地層のAg原子がNi薄膜形成過程でNi層に偏析し,Ag(111)_fcc相とNi(111)_fcc相が組成分離して共存していることが分かった。(著者抄録)

シソーラス用語： *FCC金属 ,  ニッケル ,  *薄膜 ,  エピタクシー ,  単結晶 ,  基板 ,  酸化マグネシウム ,  下層
準シソーラス用語： *エピタキシャル成長 ,  単結晶基板 ,  下地層

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (5件)： FCC ,  下地層 ,  エピタキシャル ,  Ni ,  薄膜