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J-GLOBAL ID：201302299814784207   整理番号：13A0062917

エピタキシャル高K_u磁性合金薄膜の形成と構造解析

Preparation and Structural Characterization of High K_u Magnetic Alloy Epitaxial Thin Films

著者 (2件)： 大竹充 (中央大 理工) ,  二本正昭 (中央大 理工)
資料名： 映像情報メディア学会技術報告
巻： 36  号： 55(MMS2012 20-23)  ページ： 49-54  発行年： 2012年12月06日 
JST資料番号： S0209A  ISSN： 1342-6893  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高K_u磁性合金:(1)L1₀構造のFePd,FePt,CoPt合金,(2)L1₁およびB_h(+D0₁₉)構造のCo-Pt合金,(3)D2_d(RT₅型)構造のSm-Co,Sm-Ni,Sm-Fe合金の薄膜を磁化容易軸が基板面に対して垂直方向に向くように結晶配向させた状態で単結晶基板上にエピタキシャル成長させ,構造制御の検討を行った。(1)基板温度を室温から600°Cの間の一定温度とした状態で製膜する1段階法と基板温度200°Cでの製膜後に600°Cの熱処理を施す2段階法の2種類の方法を用いて,MgO(001)基板上にFePd,FePt,および,CoPt合金膜を形成した。FePd,FePt,CoPt膜は,それぞれ200,200,400°C以下の基板温度で製膜した場合,不規則構造を持ち,これらの基板温度以上では,L1₀規則相が形成された。いずれの合金膜に対しても,基板温度の上昇に伴い,規則度が向上した。基板温度200°Cで製膜した不規則合金膜を600°Cで熱処理した場合においても,L1₀規則相が得られた。基板温度600°Cで製膜する1段階法と製膜後に600°Cの熱処理を行う2段階法で形成した膜は同程度の規則度を持った。1段階法で形成した膜はファセットが発達した島状表面形態を持つのに対して,2段階法で形成した膜では算術平均粗さが0.3nm以下の平坦性の良い表面が実現された。2段階法を用いることにより,平坦表面を持つL1₀規則合金膜を形成できることが示された。(2)基板温度を室温から600°Cの間で変化させ,MgO(111)基板上に最密充填面配向したCoPtおよびCo₃Pt合金膜をエピタキシャル成長させた。基板温度300°C付近で製膜したCoPtおよびCo₃Pt膜において,それぞれ,準安定であるL1₁およびB_h(+D0₁₉)規則相が形成された。これらの規則合金膜は強い垂直磁気異方性を示した。(3)SmCo₅化学量論組成に対してSm/Co組成をCoリッチ(12at.%Sm-Co)からSmリッチ(35at.%Sm-Co)の領域まで変化させて,Cu(111)下地層上にSm-Co合金膜を形成した。基板温度および膜組成が規則相形成に及ぼす影響について調べた。...(著者抄録)

シソーラス用語： *薄膜 ,  エピタクシー ,  *磁性合金 ,  基板温度 ,  単結晶 ,  構造解析 ,  酸化マグネシウム ,  評価試験 ,  性質 ,  規則度 ,  薄膜成長
準シソーラス用語： エピタキシャル ,  エピタキシャル成長 ,  規則性 ,  *磁性合金薄膜 ,  不規則構造 ,  不規則性

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属系複合材料一般  (WE04010V)

タイトルに関連する用語 (5件)： エピタキシャル ,  Ku ,  磁性合金 ,  薄膜 ,  構造解析