文献
J-GLOBAL ID:200902000015853818
整理番号:82A0408883
Pt-Al反応の熱的研究とシリコンへの接触抵抗に対するその効果
Thermal study of the Pt-Al reaction and its effects on contact resistance to silicon.
著者 (1件):
COHEN S S
(General Electric Co., New York)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
53
号:
5
ページ:
3906-3908
発行年:
1982年05月
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)