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文献
J-GLOBAL ID:200902000105237962   整理番号:90A0538330

プラズマ溶射したシリコン層の酸化挙動

Investigation of the oxidation behaviour of plasma sprayed silicon layers.
著者 (1件):
ALAEE M S
(Univ. Tehran, IRN)

資料名:
12th International Conference on Thermal Spraying, 1989, Vol.2  (12th International Conference on Thermal Spraying, 1989, Vol.2)

ページ: 267-276  発行年: 1989年 
JST資料番号: K19900535  ISBN: 1-85573-001-4  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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