文献
J-GLOBAL ID:200902000105237962
整理番号:90A0538330
プラズマ溶射したシリコン層の酸化挙動
Investigation of the oxidation behaviour of plasma sprayed silicon layers.
著者 (1件):
ALAEE M S
(Univ. Tehran, IRN)
資料名:
12th International Conference on Thermal Spraying, 1989, Vol.2
(12th International Conference on Thermal Spraying, 1989, Vol.2)
ページ:
267-276
発行年:
1989年
JST資料番号:
K19900535
ISBN:
1-85573-001-4
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)