文献
J-GLOBAL ID:200902000160305063
整理番号:88A0510358
共蒸着法による非晶質Cu-Zr薄膜の形成と熱安定性
Formation and thermal stability of amorphous Cu-Zr thin films deposited by coevaporation.
著者 (3件):
MINEMURA T
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
,
VAN DEN BROEK J J
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
,
DAAMS J L C
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
63
号:
9
ページ:
4426-4430
発行年:
1988年05月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)