文献
J-GLOBAL ID:200902001912685533
整理番号:89A0115879
半導体メモリの製造における格子欠陥密度と表面汚染
Defektdichte und Oberflaechenkontamination im μm Bereich in der Halbleiterspeicherproduktion.
著者 (2件):
ROHRER U
(IBM Deutschland GmbH, Sindelfingen, DEU)
,
STEINBECK H H
(IBM Deutschland GmbH, Sindelfingen, DEU)
資料名:
VDI-Berichte (Verein Deutscher Ingenieure)
(VDI-Berichte (Verein Deutscher Ingenieure))
号:
693
ページ:
225-228
発行年:
1988年
JST資料番号:
H0299A
ISSN:
0083-5560
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
ドイツ語 (DE)