Sorry, this section is only available in Japanese.
著者 (6件)：
資料名：
巻： 5 号： 4 ページ： 359-367 発行年： 1992年11月
JST資料番号： T0521A ISSN： 0894-6507 CODEN： ITSMED 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：200902002057236331
整理番号：93A0106303
窒素ガス中のウエハ帯電の中性化
Neutralization of Wafer Charging in Nitrogen Gas.
INABA H
(Takasago Thermal Engineering Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
OHMI T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
MORITA M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
NAKAMURA M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
YOSHIDA T
(Takasago Thermal Engineering Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
OKADA T
(Takasago Thermal Engineering Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名：
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
(IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing)
巻： 5 号： 4 ページ： 359-367 発行年： 1992年11月
JST資料番号： T0521A ISSN： 0894-6507 CODEN： ITSMED 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。