文献
J-GLOBAL ID:200902015480413937
整理番号:88A0206637
N,N-ジエチルジチオカルバマート基を含む光反応性単量体によるフォトレジスト高分子の製法
Preparation of photoresist polymer by a photoreactive monomer containing N,N-diethyldithiocarbamate group.
著者 (3件):
YAMASHITA K
(Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN)
,
NAKANO A
(Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN)
,
TSUDA K
(Nagoya Inst. Technology, Nagoya, JPN)
資料名:
Journal of Applied Polymer Science
(Journal of Applied Polymer Science)
巻:
35
号:
2
ページ:
465-473
発行年:
1988年02月05日
JST資料番号:
C0467A
ISSN:
0021-8995
CODEN:
JAPNAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)