文献
J-GLOBAL ID:200902015515261566
整理番号:90A0132123
SiへのCo打込みで形成される単結晶性CoSi2層
Single crystalline CoSi2 layers formed by Co implantation into Si.
著者 (4件):
VAN OMMEN A H
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
,
OTTENHEIM J J M
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
,
BULLE-LIEUWMA C W T
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
,
THEUNISSEN A M L
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
38
号:
1/4
ページ:
197-206
発行年:
1989年09月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)