文献
J-GLOBAL ID:200902015520561390
整理番号:91A0052034
シリコン上の酸化シリコン薄膜のエッジによる偏光散乱 薄膜厚さ測定のための実験法
Polarized light scattering by silicon oxide thin film edge on silicon: an experimental approach for thin film thickness determination.
著者 (2件):
CHAO S
(National Tsing Hua Univ., Hsin-Chu, TWN)
,
CHEN J-S
(National Science Council, Hsin-Chu, TWN)
資料名:
Measurement Science and Technology
(Measurement Science and Technology)
巻:
1
号:
11
ページ:
1237-1243
発行年:
1990年11月
JST資料番号:
C0354C
ISSN:
0957-0233
CODEN:
MSTCEP
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)