文献
J-GLOBAL ID:200902015590135568
整理番号:85A0250679
イオンビームリソグラフィー用静電光学系の系統的な設計
Systematic design of an electrostatic optical system for ion beam lithography.
著者 (4件):
PAIK H
(Cornell Univ., New York)
,
LEWIS G N
(Cornell Univ., New York)
,
KIRKLAND E J
(Cornell Univ., New York)
,
SIEGEL B M
(Cornell Univ., New York)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
3
号:
1
ページ:
75-81
発行年:
1985年01月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)