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J-GLOBAL ID:200902015603327704   整理番号:86A0185295

低圧プラズマ内で電子によってヘリウムのn=3副準位内に生じる衝突過程 電子密度測定への応用

Collisional processes induced in the n=3 helium sublevels by electrons in a low-pressure plasma. Application to the electron density measurement.
著者 (2件):
DUBREUIL B
(Univ. Orleans, France)
PRIGENT P
(Univ. Orleans, France)

資料名:
Journal of Physics. B. Atomic & Molecular Physics  (Journal of Physics. B. Atomic & Molecular Physics)

巻: 18  号: 23  ページ: 4597-4611  発行年: 1985年12月14日 
JST資料番号: B0913A  ISSN: 0022-3700  CODEN: JPAMA4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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