文献
J-GLOBAL ID:200902015614451237
整理番号:85A0424403
けい化タングステン膜の形成と評価
Formation and characterization of tungsten silicide layers.
著者 (4件):
GOELTZ G
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, France)
,
TORRES J
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, France)
,
LAJZEROWICZ J JR
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, France)
,
BOMCHIL G
(Centre National d’Etudes des Telecommunications, France)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
124
号:
1
ページ:
19-26
発行年:
1985年02月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)