文献
J-GLOBAL ID:200902015665703877
整理番号:90A0737725
Application of plasma diagnostic techniques to dry etching process control.
著者 (4件):
DESHMUKH V
(Royal Signals and Radar Establishment, Worcestershire, GBR)
,
COX T
(Royal Signals and Radar Establishment, Worcestershire, GBR)
,
HYDES A
(Royal Signals and Radar Establishment, Worcestershire, GBR)
,
HOPE D
(Royal Signals and Radar Establishment, Worcestershire, GBR)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1185
ページ:
296-305
発行年:
1990年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)