文献
J-GLOBAL ID:200902015666633198
整理番号:89A0554480
低速のArイオンを用いたスパッタリングによるSiO2の深い表面損傷
Deep surface damage of SiO2 by sputtering with low energy Ar-ions.
著者 (2件):
COLLART E
(Philips Research Lab., Eindhoven, The Netherlands)
,
VISSER R J
(Philips Research Lab., Eindhoven, The Netherlands)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
218
号:
2/3
ページ:
L497-L504
発行年:
1989年08月
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)