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文献
J-GLOBAL ID:200902015674783662   整理番号:93A0009230

結合ドリフト・拡散/モンテカルロ方法を用いたSi MOSFETのホットエレクトロン・ゲート電流のモデル化

Modeling Hot-Electron Gate Current in Si MOSFET’s Using a Coupled Drift-Diffusion and Monte Carlo Method.
著者 (5件):
HUANG C
(National Chiao-Tung Univ., Hsin-Chu, TWN)
WANG T
(National Chiao-Tung Univ., Hsin-Chu, TWN)
CHEN C N
(Industrial Technology Research Inst., Hsin-Chu, TWN)
CHANG M C
(Industrial Technology Research Inst., Hsin-Chu, TWN)
FU J
(Industrial Technology Research Inst., Hsin-Chu, TWN)

資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices  (IEEE Transactions on Electron Devices)

巻: 39  号: 11  ページ: 2562-2568  発行年: 1992年11月 
JST資料番号: C0222A  ISSN: 0018-9383  CODEN: IETDAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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