文献
J-GLOBAL ID:200902023183205074
整理番号:89A0253661
低運動エネルギー粒子のプロセスによる極低温での薄膜調製技術
Very-low-temperature thin-film formation technology by a low-kinetic-energy particle process.
著者 (2件):
OHMI T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
SHIBATA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
37/38
ページ:
794-798
発行年:
1989年02月
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)