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著者 (4件)：
資料名：
巻： 31 号： 3 ページ： 932-937 発行年： 1992年03月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902051330269125
整理番号：92A0287630
電子サイクロトロン共鳴水素プラズマと酢酸ブチル反応ガスを用いた反応性イオンエッチング
Reactive Ion Etching Using Electron Cyclotron Resonance Hydrogen Plasma with n-Butyl Acetate Reactive Gas.
MIYATA T
(Kanazawa Inst. Technology, Ishikawa)
,
MINAMI T
(Kanazawa Inst. Technology, Ishikawa)
,
SATO H
(Kanazawa Inst. Technology, Ishikawa)
,
TAKATA S
(Kanazawa Inst. Technology, Ishikawa)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 31 号： 3 ページ： 932-937 発行年： 1992年03月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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