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著者 (4件)：
資料名：
巻： 4 号： 3 Pt 1 ページ： 590-593 発行年： 1986年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902076655001105
整理番号：86A0485031
CF4およびCF4+O2混合気におけるβ-SiCのドライエッチング
Dry etching of β-SiC in CF4 and CF4 + O2 mixtures.
PALMOUR J W
(North Carolina State Univ.)
,
DAVIS R F
(North Carolina State Univ.)
,
WALLETT T M
(Lewis Research Center National Aeronautics and Space Administration, Ohio)
,
BHASIN K B
(Lewis Research Center National Aeronautics and Space Administration, Ohio)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 4 号： 3 Pt 1 ページ： 590-593 発行年： 1986年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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