文献
J-GLOBAL ID:200902131008493803
整理番号:97A0560196
ECRプラズマCVD法で作製した高品質ダイヤモンド状炭素薄膜
High quality diamond like carbon thin film fabricated by ECR plasma CVD.
著者 (5件):
KURAMOTO K
(Sanyo Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
DOMOTO Y
(Sanyo Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
HIRANO H
(Sanyo Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
KIYAMA S
(Sanyo Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
TSUDA S
(Sanyo Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
113/114
ページ:
227-230
発行年:
1997年04月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)