文献
J-GLOBAL ID:200902131024236322
整理番号:96A0895859
電子サイクロトロンプラズマ化学蒸着で蒸着したナノ結晶シリコンの急速固相結晶化
Rapid solid phase crystallization of nanocrystalline silicon deposited by electron cyclotron plasma chemical vapor deposition.
著者 (5件):
HOLGADO S
(Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
,
MARTINEZ J
(Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
,
GARRIDO J
(Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
,
MORANT C
(Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
,
PIQUERAS J
(Univ. Autonoma de Madrid, Madrid, ESP)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
69
号:
13
ページ:
1873-1875
発行年:
1996年09月23日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)