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著者 (4件)：
資料名：
巻： 108 号： 3 ページ： 351-358 発行年： 1997年03月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902131037418314
整理番号：97A0324162
反応性スパッタリングにより作成したSnO2薄膜の電気的性質及びトポグラフィー
Electrical properties and topography of SnO2 thin films prepared by reactive sputtering.
BROUSSEAU J-L
(Univ. Miami, FL, USA)
,
BOURQUE H
(Univ. Miami, FL, USA)
,
TESSIER A
(Univ. Miami, FL, USA)
,
LEBLANC R M
(Univ. Miami, FL, USA)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 108 号： 3 ページ： 351-358 発行年： 1997年03月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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