文献
J-GLOBAL ID:200902165210608762
整理番号:93A0682756
燃焼化学蒸着 新しい薄膜蒸着法
Combustion chemical vapor deposition: A novel thin-film deposition technique.
著者 (3件):
HUNT A T
(Georgia Inst. Technology, Georgia)
,
CARTER W B
(Georgia Inst. Technology, Georgia)
,
COCHRAN J K JR
(Georgia Inst. Technology, Georgia)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
63
号:
2
ページ:
266-268
発行年:
1993年07月12日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)