文献
J-GLOBAL ID:200902165214320453
整理番号:01A0464912
低κ誘電体と銅薄膜の熱力学特性の迅速な特性化のための最新の計測方法
Advanced Metrology for Rapid Characterization of the Thermal Mechanical Properties of Low-k Dielectric and Copper Thin Films.
著者 (5件):
LAU S H
(Frontier Semiconductor, CA)
,
TOLENTINO E
(Frontier Semiconductor, CA)
,
LIM Y
(Frontier Semiconductor, CA)
,
TOLENTINO E
(Frontier Semiconductor, CA)
,
KOO A
(Frontier Semiconductor, CA)
資料名:
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻:
30
号:
4
ページ:
299-303
発行年:
2001年04月
JST資料番号:
D0277B
ISSN:
0361-5235
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)