文献
J-GLOBAL ID:200902212381414239
整理番号:08A1004095
低圧析出プラズマの電子動力学
Electron dynamics of low-pressure deposition plasma
著者 (4件):
YASUDA Hirotsugu
(Albert-Ludwigs-Univ. Freiburg, Freiburg, DEU)
,
LEDERNEZ Loic
(Albert-Ludwigs-Univ. Freiburg, Freiburg, DEU)
,
OLCAYTUG Fethi
(Albert-Ludwigs-Univ. Freiburg, Freiburg, DEU)
,
URBAN Gerald
(Albert-Ludwigs-Univ. Freiburg, Freiburg, DEU)
資料名:
Pure and Applied Chemistry
(Pure and Applied Chemistry)
巻:
80
号:
9
ページ:
1883-1892
発行年:
2008年09月
JST資料番号:
H0385A
ISSN:
0033-4545
CODEN:
PACHAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)