文献
J-GLOBAL ID:200902212388235283
整理番号:06A0426397
陽極接合シリコンウエハをエッチングマスクとして用いるほうけい酸ガラスの深反応性イオンエッチング
Deep reactive ion etching of borosilicate glass using an anodically bonded silicon wafer as an etching mask
著者 (2件):
AKASHI T
(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)
,
YOSHIMURA Y
(Hitachi, Ltd., Ibaraki, JPN)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
16
号:
5
ページ:
1051-1056
発行年:
2006年05月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)