文献
J-GLOBAL ID:200902212431253266
整理番号:04A0798027
ナノ結晶シリコン薄膜のパルス熱加工
The Pulse Thermal Processing of Nanocrystalline Silicon Thin-Films
著者 (5件):
OTT R D
(Oak Ridge National Lab. in Oak Ridge, TN)
,
KADOLKAR P
(Oak Ridge National Lab. in Oak Ridge, TN)
,
BLUE C A
(Oak Ridge National Lab. in Oak Ridge, TN)
,
COLE A C
(Univ. Alabama in Tuscaloosa, AL)
,
THOMPSON G B
(Univ. Alabama in Tuscaloosa, AL)
資料名:
JOM
(JOM)
巻:
56
号:
10
ページ:
45-47
発行年:
2004年10月
JST資料番号:
C0321A
ISSN:
1047-4838
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)