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文献
J-GLOBAL ID:200902212476756706   整理番号:05A0313846

波型Cuインタコネクタの集合組織の進展に及ぼす焼鈍,表面/歪エネルギー及び線間隔対線幅比の影響

Impact of annealing, surface/strain energy and linewidth to line spacing ratio on texture evolution in damascene Cu interconnects
著者 (2件):
MIRPURI Kabirkumar
(McGill Univ., Quebec, CAN)
SZPUNAR Jerzy
(McGill Univ., Quebec, CAN)

資料名:
Materials Characterization  (Materials Characterization)

巻: 54  号:ページ: 107-122  発行年: 2005年02月 
JST資料番号: D0448C  ISSN: 1044-5803  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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