文献
J-GLOBAL ID:200902212504818526
整理番号:07A0473839
高プラズマ電位のグリッド支援マグネトロンシステムを用いたTiN膜の堆積中におけるイオン照射特性
Ion-bombardment characteristics during deposition of TiN films using a grid-assisted magnetron system with enhanced plasma potential
著者 (6件):
KUDLACEK P.
(Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 306 14 Plzen, CZE)
,
VLCEK J.
(Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 306 14 Plzen, CZE)
,
HOUSKA J.
(Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 306 14 Plzen, CZE)
,
HAN Jeon G.
(Center for Advanced Plasma Surface Technol. (CAPST), Sungkyunkwan Univ., 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon 440-746 ...)
,
JUNG Min J.
(Center for Advanced Plasma Surface Technol. (CAPST), Sungkyunkwan Univ., 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon 440-746 ...)
,
KIM Yong M.
(Center for Advanced Plasma Surface Technol. (CAPST), Sungkyunkwan Univ., 300 Chunchun-dong, Jangan-gu, Suwon 440-746 ...)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
81
号:
9
ページ:
1109-1113
発行年:
2007年05月25日
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)