文献
J-GLOBAL ID:201702228577761620
整理番号:17A0057832
微分反射顕微鏡で調べたFD-SOIウエハのシリコン厚さの変化【Powered by NICT】
Silicon thickness variation of FD-SOI wafers investigated by differential reflective microscopy
著者 (7件):
Auerhammer J.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
Hartig C.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
Wendt K.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
van Oostrum R.
(GLOBALFOUNDRIES Inc., Dresden, Germany)
,
Pfeiffer G.
(GLOBALFOUNDRIES US, Hopewell Junction, NY, 12533, USA)
,
Bayer S.
(HSEB Dresden GmbH, Dresden, Germany)
,
Srocka B.
(HSEB Dresden GmbH, Dresden, Germany)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
S3S
ページ:
1-3
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)