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J-GLOBAL ID：200901007470074380
Update date: Jan. 28, 2003
Ishida Koichi
イシダ コウイチ | Ishida Koichi
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Affiliation and department：
Yamaguchi Prefectural Industrial Technology Institute
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Research keywords (1)：
薄膜技術 微細加工技術
MISC (4)：
フォトリソグラフィーを用いた薄膜インダクタの試作. (電子情報通信学会、総合大会講演論文集、1999年)
パルスプラズマCVD法によるSiN膜の定温合成. (山口県工業技術センター研究報告第7号、1995年)
Modification of a Carbon Electrode Surface by Cold Plasma Treatment for Electric Double Layer Capacitors. (Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol.496 , Materials Research Society ,655-660,1998)
ECRスパッタ法によるCo-Cr垂直磁気ディスクの作製. (山口県工業技術センター研究報告第11号、1999年)
Patents (2)：
耐熱性硬質ニッケル-タングステン合金めっき皮膜及びその形成方法
耐熱性ニッケル-タングステン合金めっき皮膜及びその形成方法
Association Membership(s) (4)：
表面技術協会
, 日本セラミック協会
, 電子情報通信学会
, 応用物理学会
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