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J-GLOBAL ID:200901019380365490
Update date: Feb. 01, 2024
Heya Akira
ヘヤ アキラ | Heya Akira
Affiliation and department:
Homepage URL (1):
http://www.eng.u-hyogo.ac.jp/outline/faculty/heya/index.html
Research field (5):
Quantum beam science
, Chemical reaction and process system engineering
, Composite materials and interfaces
, Nanostructure physics
, Inorganic materials
Research keywords (9):
Atomic hydrogen annealing
, Atomic hydrogen
, Graphene nanoribbon
, Catalyst
, Chemical Vapor Deposition
, Graphene
, 2D Materials
, 構造解析
, 半導体薄膜
Research theme for competitive and other funds (21):
- 2022 - 2026 Platform for analysis of biological vesicle contents by fusion with membranes suspended over microwells
- 2022 - 2025 Synthesis of two-dimensional aromatic compounds using hydrogen and heated catalysts and their spin device applications
- 2019 - 2020 原子状水素を用いたEUV光用光学素子の表面汚染物の除去
- 2018 - 2019 原子状水素アニールによる表面汚染物除去
- 2015 - 2018 Synthesis of graphene on pentacene structure by hot mesh deposition and transfer mechanism of relativistic particles
- 2015 - 2017 ホットメッシュ法によるグラフェンオンペンタセンの創製とその相対論的粒子の移動
- 2015 - 2016 原子空孔制御による高品質多結晶Ge膜の形成
- 2012 - 2015 Study on DNA memory device
- 2014 - 2015 シートコンピュータ実現のための軟X線照射によるBクラスタの低温活性化
- 2013 - 2015 Catalstless formation of graphene nanoribbon by pentacene gas phase polymarization and its device application
- 2013 - 2014 原子状水素アニールによる次世代太陽電池用大面積グラフェン膜の創製
- 2011 - 2012 軟X線励起による半導体中の不純物原子の低温活性化技術の開発
- 2009 - 2010 高密度AHA処理によるプラスチック基板上の結晶性Si層の形成技術の開発
- 2006 - 2008 原子状水素処理による有機薄膜トランジスタの特性向上
- 2007 - 2008 Si quasi-nucleation with a nanometer dimension by soft X-ray irradiation onto amorphous Si and dynamics of low-temperature crystallization by excimer laser irradiation following the soft X-ray irradiation
- 2006 - 2007 フレキシブルディスプレイ実現のための低温多結晶シリコン膜の形成
- 2006 - 2007 プラスチック基板上への電子デバイス形成技術の開発
- 2006 - 2007 原子状水素処理による有機薄膜トランジスタの特牲向上
- 2004 - 2005 原子状水素による極表面アニール法の開発
- 2001 - 2003 低温触媒CVD装置の開発
- 2001 - 2002 次世代発光ダイオード材料(鉄シリサイド薄膜)の新規堆積技術の開発に関する研究
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Papers (126):
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Akira Heya, Koji Sumitomo. Surface Cleaning and Modification of Oxide Films by Atomic Hydrogen Annealing. Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022. 35. 4. 351-357
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Akira HEYA, Akinori Fujibuchi, Masahiro Hirata, Kazuhiro KANDA, Yoshiaki Matsuo, Junichi INAMOTO, Koji Sumitomo. Effects of underlayer on reduction of graphene oxide through atomic hydrogen annealing and soft X-ray irradiation. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 62. SC. SC1028-SC1028
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Ryo Yamasaki, Akira Heya, Naoto Matsuo, Koji Sumitomo. Surface Treatment of Aluminum Oxide Using Atomic Hydrogen Generated by Catalytic Reaction on Heated Tungsten. e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. 2022. 21. 1. 46-54
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Masahito Niibe, Yuichi Haruyama, Akira Heya, Seigo Ito. Soft X-ray Absorption/Emission Spectroscopy and Atomic Hydrogen Irradiation Effect of Ammonia Borane. e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. 2022. 20. 4. 226-231
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A. Heya, K. Kanda, R. Yamasaki, K. Sumitomo. Effects of Ge and Ni catalytic underlayers to nanographene synthesis from pentacene-based film via soft X-ray irradiation. Jpn. J. Appl. Phys. 2022. 61. SC1057
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MISC (55):
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春山雄一, 森本大貴, 部家彰, 住友弘二, 伊藤省吾, 横田久美子, 田川雅人. 原子状水素照射による深さ方向分析. 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web). 2022. 35th
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門林大矢, 橋野開, 大嶋梓, 山口真澄, 部家彰, 住友弘二. Control of Vesicle Fusion by Biotin-Streptavidin interaction. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 82nd
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土井響, 吉水寛人, 乾徳夫, 樫村吉晃, 大嶋梓, 山口真澄, 部家彰, 住友弘二. Suppression of ion leakage through water layer at the semiconductor substrate / lipid bilayer interface. 電気学会研究会資料(Web). 2021. OQD-21-065-071
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春山雄一, 部家彰, 住友弘二, 伊藤省吾. 原子状水素を用いた固体表面クリーニングへの応用. 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web). 2021. 34th
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部家彰, 山田良貴, 山崎良, 神田一浩, 住友弘二. Effect of soft X-ray irradiation on polymerization reaction of pentacene precursors. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2021. 68th
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Books (8):
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これからの蓄・省エネルギー材料の開発における機能性付与技術
技術情報協会 2013
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ロールtoロール事例集~プロセス応用に向けた技術課題と対策~
情報機構 2011
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ディスプレイと照明の材料技術 ~液晶・プラズマ・有機EL・無機EL・LED・プロジェクター
CMC出版 2010
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触媒CVD(Cat-CVD)の新展開 -ラジカルを用いる新プロセス技術-
CMC出版 2008
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ドライプロセスによるディスプレイ・光学部材における具体的な薄膜製造コーティング技術
情報機構 2007
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Lectures and oral presentations (59):
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AlOx/GeOx/a-Ge ゲートスタック構造への原子状水素アニールの効果
(第65回応用物理学会春季学術講演会 講演予稿集 2019)
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DNA/Si-MOSFETの正孔,電子伝導に関する検討
(応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
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ペンタセンとNi担持Wメッシュを用いたナノカーボン膜の作製
(応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
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AlO<sub>x</sub>/GeO<sub>x</sub>/a-Geゲートスタック構造への原子状水素アニールの効果
(応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
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Ge薄膜のFLA結晶化におけるキャップ層の効果
(応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
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Education (2):
- - 2000 Japan Advanced Institute of Science and Technology
- - 1995 Naruto University of Education College of Education
Professional career (1):
Work history (3):
- 2008/04 - 現在 University of Hyogo of Engineering, Graduate School
- 2005/07 - 2008/03 University of Hyogo of Engineering, Graduate School
- 2000/04 - 2005/06 Industrial Research Institute of Ishikawa
Committee career (5):
- 2017 - 現在 HWCVD プログラム委員
- 2016 - 現在 SSDM プログラム委員
- 2007 - 現在 Cat-CVD研究会 実行委員
- 2006 - 現在 AMFPD プログラム委員
- 2020/04 - 表面真空学会関西支部
Association Membership(s) (2):
The Japan Society of Vacuum and Surface Science
, 応用物理学会
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