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J-GLOBAL ID:200901021262228679   Update date: Oct. 02, 2020

Nagashima Seiichi

ナガシマ セイイチ | Nagashima Seiichi
Affiliation and department:
Job title: Blank
Research field  (2): Thin-film surfaces and interfaces ,  Thin-film surfaces and interfaces
Research keywords  (4): Single Gold crystal surfaces ,  Thin Films ,  Growth mode ,  Thin Films and Surface Physics
Papers (29):
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Lectures and oral presentations  (98):
  • 桜花での放射性セシウムの移行係数の経年変化
    (第56回日本大学工学部学術研究報告会 2013)
  • 桜花への134Csと137Csの移行係数の経年変化
    (第2回環境放射能除染研究発表会 2013)
  • 桜花への放射性セシウム134と137の移行係数について
    (第55回日本大学工学部学術研究報告会 2012)
  • 被災地域に位置する日本大学工学部の取り組みー「ふるさと創生支援センター」の開設
    (第1回環境放射能除染研究発表会 2012)
  • Relationship between Auger electron intensities and reconstructed structures of Se and Te thin films deposited on Au(111) surfaces.
    (第53回日本大学工学部学術研究報告会 2010)
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Education (2):
  • - 1977 Nihon University Graduate School, Division of Engineering 電気工学
  • - 1972 Nihon University Faculty of Engineering 電気工学
Professional career (2):
  • 工学博士 (日本大学)
  • 工学修士 (日本大学)
Work history (4):
  • 1996/04 - Professor
  • 1989/04 - 1996/03 Assistant Professor
  • 1979/04 - 1989/03 Lecture
  • 1977/04 - 1979/03 Assistant
Committee career (1):
  • 2013/10 - 2014/07 環境放射能除染学会 第3回環境放射能除染研究発表会実行委員長
Association Membership(s) (4):
応用物理学会 ,  電子情報通信学会 ,  日本結晶成長学会 ,  日本表面科学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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