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J-GLOBAL ID：200901023509349957
Update date: Jan. 30, 2024
Murakami Masanori
ムラカミ マサノリ | Murakami Masanori
Affiliation and department：
Job title：
Professor
Research field (6)：
Composite materials and interfaces
, Inorganic materials
, Metallic materials
, Electric/electronic material engineering
, Thin-film surfaces and interfaces
, Nanomaterials
Research keywords (1)：
Physical Properties of Thin Films , Interfacial Engineering Electrode Materials for Compound Semiconductor Devices , Wiring Materials for Semiconductor Devices , Wiring Materials for Semiconductor Devices
Research theme for competitive and other funds (23)：
- 2006 - 2007 Developments of new complex materials using mime and interface diffusion of the supersaturated alloy elements in thin films
- 2006 - 2006 「自然順応ナノ材料の創成」 高性能LED用の代替透明電極材料の開発
- 2005 - 2005 「薄膜・微粒子技術の産業化」 高性能LED創成に向けた要素技術の開発
- 2003 - 2005 Ohmic contact materials for wide-gap semiconductors : Fabrication and STP analysis.
- 2001 - 2005 次世代Siデバイス用超微細Cu配線材料に関する主影響解明ならびに材料学的本質的解決手法の確立にかかわる研究
- 2003 - 2004 省エネ型高精度マイクロ流量センサーの開発
- 2001 - 2002 Formation Mechanism of Unique Voids in Cu Interconnects for ULSI
- 2001 - 2002 Development of highly reliable contacts on p-type CdTe for radiation detectors
- 1999 - 2002 超低損失電力素子技術開発 基板技術開発SiCへの低抵抗オーム性電極材料の開発
- 2000 - 2001 水素吸蔵金属とGaN半導体の接合界面における水素の挙動
- 2000 - 2000 半導体微細配線材料ボイドに関するデータ整備
- 2000 - 2000 結晶-電極の界面組成分析
- 1998 - 2000 ガリウム・ヒ素化合物半導体用の超新機能電極材料の研究
- 1996 - 2000 ダイヤモンドによる次世代電子エミッターの開発
- 1998 - 1998 非鉄金属系材料の基礎物性等に係るデータベースの整備
- 1997 - 1998 Physics of contact interface of electron emission devices for display
- 1997 - 1998 次世代Siデバイス用のCu配線材料の開発
- 1996 - 1998 化合物半導体の新機能電極材料の開発<ナノ・スケール界面構造の構築>
- 1996 - 1997 Development of High Performance Ohmic Contact Materials for Full Color Light Enitting Devices.
- 1995 - 1996 金属/化合物半導体界面における電気特性及び微細構造に関する研究
- 1993 - 1995 Development of Ohmic contact materials for ZnSe-based blue light emitting devices
- 1993 - 1995 APPLICATION OF INTERMETALLIC COMPOUNDS TO FUNCTIONAL ELECTRONIC MATERIALS
- 1991 - 1992 Thermal Strain of In films deposited onto Si and GaAs Substrates
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Papers (259)：
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村上正紀. 海外留学の勧め. 草津市立教育研究所 研究所だより. 2015. 93
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村上正紀. 学生時代に届かなかった1通のAir Mailが恵んでくれた我が研究人生!. 応用物理. 2015. 84. 2. 102-108
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K. Ito, K. Hamasaka, K. Kohama, S. Shirai, M. Murakami. Low-Temperature Synthesis of High-Adhesion Cu(Mg) Alloy Films on Glass Substrates. Journal of Electronic Materials. 2014. 43. 7. 2540-2547
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村上正紀. 科学・技術立国に不可欠な人材育成について-日米を比較して考える-. 学術の動向. 2014. 19. 2. 26-34-34
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早稲田嘉夫, 黒田光太郎, 村上正紀, 細野秀雄. 総合討論「材料工学が目指す人材とは」. 学術の動向. 2014. 19. 2. 40-47-47
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MISC (66)：
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ITO K., KOHAMA K., HAMASAKA K., SHIRAI Y., MURAKAMI M. Low-temperature synthesis of high-adhesion Cu films on glass substrates. 2013. 93. 346-347
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ITO Kazuhiro, NAKAGAWA Wataru, ONISHI Takashi, SHIRAI Yasuharu, MURAKAMI Masanori. Resistance reduction of Cu alloy interconnects in the contact with ITO transparent conductive films. Journal of architecture and building science. 2013. 92. 44-45
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小濱和之, 松本卓也, 伊藤和博, 白井泰治, 村上正紀. スパッタCu膜の室温粒成長に及ぼすCu膜配向性とバリアの影響. 日本金属学会講演概要(CD-ROM). 2011. 149th. ROMBUNNO.POSUTASESSHON,159
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中川渉, 伊藤和博, 大西隆, 白井泰治, 村上正紀. Cu合金/ITO界面接触抵抗の低減. 日本金属学会講演概要(CD-ROM). 2011. 149th. ROMBUNNO.POSUTASESSHON,155
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小濱和之, 浜坂啓司, 薗林豊, 伊藤和博, 白井泰治, 村上正紀. Ti基自己形成バリアにおけるバリア性の雰囲気依存性. 日本金属学会講演概要. 2011. 148th. 162
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Patents (45)：
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Josephson devices of improved thermal cyclability and method
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Thermally stable ohmic contact for gallium-arsenide
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Thermally stable low resistance contact
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Method for forming distributed barrier compound semiconductor contacts
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オーミック電極およびその形成方法
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Books (19)：
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ナノ蒸着オーム性電極材の形成技術
「ナノメタルの最新技術と応用技術」シーエムシー社 2003
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半導体ー金属電極間の傾斜材料
「傾斜機能材料の開発と応用」リアライズ社 2003
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Development of Refractory Ohmic Contact Materials for Gallium Arsenide CompoundSemiconductors
Sci.Technol.Adv.Mater 2002
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Ohmic Contacts for Compound Semiconductors
Cri, Rev.Sol.Stat.Mater.Sci. 1998
-
Cu配線用スパッタ蒸着バリア材
「Cu配線技術の最新の展開」リアライズ社 1998
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Education (3)：
- - 1971 Kyoto University "Graduate School, Division of Engineering" Metallurgy Major
- - 1968 Kyoto University "Graduate School, Division of Engineering" Metallurgy Major
- - 1966 Kyoto University Faculty of Engineering Department of Metallurgy
Professional career (1)：
- Doctor of Engineering (Kyoto University)
Work history (8)：
- 2022/04 - 現在 Ritsumeikan University Ritsumeikan-Global Innovation Research Organization
- 2019/04 - 2022/03 The Ritsumeikan Trust , Assistant Trustee
- 2015 - 2018 Ritsumeikan University
- 2007 - 2014 学校法人 立命館 副総長・京都大学名誉教授
- 1990 - 2007 Kyoto University Graduate School of Engineering, Deprtment of Materical Science and Engineering
- 1983 - 1990 米国IBMワトソン中央研究所薄膜材料部門マネジャー [国外]
- 1975 - 1983 米国IBMワトソン中央研究所研究員 [国外]
- 1971 - 1975 米国カリフォルニア大学ロサンゼルス校(UCLA)研究員 [国外]
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Committee career (53)：
- 京都環境ナノクラスター本部事業推進協議会委員
- ネオマテリアル創成研究会副理事長
- 京都知的クラスター本部 事業推進協議会 委員
- 財団法人生産開発科学研究所 評議委員
- 財団法人京都高度技術研究所 研究顧問
- 一般財団法人サムコ科学技術振興財団審査委員長
- 公益財団法人泉科学技術振興財団評議員
- 公益財団法人松籟科学技術振興財団 評議員
- 公益財団法人双葉電子記念財団理事
- 公益財団法人稲盛財団「京都賞」先端技術部専門委員会 委員、委員長,研究助成金選考委員長
- 公益財団法人村上記念会 評議員
- 公益財団法人本多記念会 理事、常任理事、理事長
- 米国 Electrical Materials Conference 組織委員
- Asian Advanced Metallurgy Conference 委員長、顧問
- 国際刊行誌「Science and Technology Advanced Materials」国際諮問委員会 委員
- 国際刊行誌「Materials Chemistry and Physics」国際諮問委員会 委員
- 「化合物半導体材料分野の技術連絡策定委員会」委員長
- 社団法人新金属協会産業技術戦略策定基盤調査
- 社団法人日本工学アカデミー 理事・監事
- 社団法人日本鉄鋼協会関西支部 理事
- 社団法人日本金属学会 理事、副会長、会長
- 自然順応型ネオマテリアル創成研究会座長
- 近畿地域イノベーション創出のための基本方針検討委員会 委員
- 財団法人新機能素子研究開発協会総合調査研究委員会 委員
- 関西ナノ・テクノロジー推進会議 幹事
- 財団法人大阪科学技術センター 非鉄金属系新素材の知的基盤整備委員会委員、
- 財団法人金属系材料研究開発センター 評議員
- 産業技術審議会 臨時委員
- 材料国家産業技術戦略検討委員会 委員
- 日本学術振興会 HOPEミーティング運営委員
- 日本学術振興会 特別研究員等審査会 専門委員
- 総合科学技術会議 専門委員
- 総合技術会議ナノテクノロジー・戦略タスクフォース委員
- 日本学術会議連携会員
- 科学技術振興機構 イノベーション大阪アドバイザー
- 科学技術振興機構 元素戦略領域アドバイザー
- 科学技術振興機構 研究戦略センター特任フェロー
- 科学技術振興調整費 評価委員
- 文部科学省産学共創プラットフォーム推進委員
- 文部科学省 GRENE運営委員
- 文部科学省 元素戦略運営統括会議専門委員・プロジェクトオフィサー
- 文部科学大臣表彰審査委員会若手科学者賞審査部会 委員
- 文部科学省 学術審議会 専門委員
- 文部科学省 大学設置・学校法人審議会 専門委員
- 文部科学省技術参与(ナノテクノロジー・材料科学技術研究担当)
- 京都法科大学院外部評価委員
- 大阪電気通信大学 学術フロンティア推進事業評価委員
- 富山大学工学部 外部評価委員
- 金沢大学ものづくり研究所評価委員
- 金沢工業大学高度材料科学研究開発センター 評価委員
- 東北大学客員教授
- 名古屋大学大学院工学研究科 非常勤講師
- 東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻 非常勤講師
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Awards (16)：
- 2017/04 - 日本金属学会名誉員
- 2016/06 - (公益財団法人)本多記念賞
- 2011/03 - 日本金属学会賞
- 2009/04 - JAPANESE GOVERNMENT Medal with Purple Ribbon
- 2006/09 - 功労賞(日本金属学会)
- 2006/04 - 文部科学大臣表彰 科学技術賞(文部科学省)
- 2003/03 - 谷川・ハリス賞(日本金属学会)
- 1998/03 - 増本量賞(日本金属学会)
- 1989/07 - IBM発明功績賞(米国 IBM)
- 1986/07 - IBM開発賞(米国 IBM)
- 1986/04 - 功績賞(日本金属学会)
- 1986/02 - IBM発明功績賞(米国 IBM)
- 1982/06 - W.ホフマン国際記念賞(英国 鉛協会)
- 1982/04 - ジェフリース賞(日本金属学会)
- 1980/07 - IBM発明功績賞(米国 IBM)
- 1979/12 - IBM創造賞(米国 IBM)
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