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J-GLOBAL ID：200901028978219624
Update date: May. 11, 2015
Takabayashi Sotohiro
タカバヤシ ソトヒロ | Takabayashi Sotohiro
Affiliation and department：
Job title：
Senior Researcher
Other affiliations (1)：
Research field (3)：
Inorganic materials
, Metallic materials
, Thin-film surfaces and interfaces
Research keywords (7)：
マイクロ波焼成
, 反応性スパッタリング
, 酸化チタン膜
, NiTi形状記憶合金膜
, Microwave
, film
, Photocatalysis
Research theme for competitive and other funds (4)：
- マイクロ波照射による金属薄膜の加熱処理
- スパッタリング法による光触媒酸化チタン膜の低温成膜
- NiTi形状記憶合金膜を用いたアクチュエータの開発 反応性スパッタリングによる光触媒酸化チタン膜
- TiO2 film deposited by sputtering
MISC (14)：
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高林外広、高橋伸忠、高木憲一、光触媒膜の作製技術. Japan Energy & Technology Intelligence,. 2002. Vol.50,No.2,(2002)67-39
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Sotohiro.TAKABAYASHI, Petr. ZEMAN, Nobutada. TAKAHASHI, Ken-ichi.TAKAGI, Photocatalytic properties of the low reflection SiO2/TiO2/SiO2 film with micro-holes deposited by reactive m.f. magnetron sputtering,. proceedings of CRC International Symposium on photochemistry @ interfaces. 2002. 2
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P.Zeman, S. Takabayashi, Effect of total and oxygen partial pressures on structure of photocatalytic TiO2 films sputtered on unheated substrate. Surface and Coatings Technology. 2002. No.153, 93-99
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P.Zeman, S.Takabayashi,Self-cleaning and antifogging effects of TiO2 films prepared by radio frequency magnetron sputtering. J. of Vacuum and Technology. 2002. A20(2) Mar. Apr 388
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高林外広、Petr ZEMAN、高橋伸忠,ポリカーボネート上に作製したSiO2/TiO2/SiO2膜の光触媒特性,. 光触媒. 2001. Vol.5 (2001)23-26
ｍore...
Patents (4)：
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ECRスパッタリング装置及び透明導電膜の製造方法
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光触媒酸化チタン膜の高速成膜方法
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光触媒層の成膜方法
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光触媒装置
Education (2)：
- 1984 - Tohoku University Faculty of Engineering
- 金沢大学自然科学研究科博士課程
Professional career (1)：
Association Membership(s) (2)：
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