Rchr
J-GLOBAL ID：200901042522811745
Update date: Sep. 16, 2022
Horio Yoshimi
ホリオ ヨシミ | Horio Yoshimi
Affiliation and department：
Research field (1)：
Thin-film surfaces and interfaces
Research keywords (6)：
薄膜
, 表面
, 反射高速電子回折
, thin film
, surface
, RHEED
Research theme for competitive and other funds (12)：
- CaF2絶絶薄膜の成長・形態の応用
- 電界放射電子線源の開発
- RHEED用エネルギーフィルターの開発
- 反射高速電子回折による表面構造研究
- エネルギーフィルター型RHEEDによる表面研究
- 反射高速電子回折における波動場の研究
- Application of growth and morphology of CaF2 thin film
- Development of field emission electron beam source
- Development of energy filter for RHEED
- Surface Structural Study by RHEED
- Surface Study by Energ Filtered RHEED
- Study on Wave Field by RHEED
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MISC (48)：
Works (4)：
-
半導体基板上の絶縁膜の成長様式・形態
2001 -
-
Growth mode and morphology of insulating film on semiconductor substrate
2001 -
-
電子波動場による結晶表面リトグラフの基礎的研究
1998 -
-
Basic study of crystal surface lithography by electron wave field
1998 -
Professional career (1)：
- Engineering Doctor (Nagoya University)
Committee career (1)：
Awards (1)：
Association Membership(s) (4)：
日本結晶学会
, 日本表面科学会
, 応用物理学会
, 日本物理学会
