Rchr
J-GLOBAL ID：200901051715734500
Update date: Jul. 02, 2022
Ohno Hideki
オオノ ヒデキ | Ohno Hideki
Contact this researcher
You can send email directly to the researcher.
Affiliation and department：
Tokyo National College of Technology Department of General Subjects
About Tokyo National College of Technology Department of General Subjects
Search "Tokyo National College of Technology Department of General Subjects"
Detailed information
Job title：
Associate Professor
Research field (3)：
Thin-film surfaces and interfaces
, Crystal engineering
, Applied materials
Research keywords (4)：
薄膜
, 表面物理
, thin film
, Surface Physics
Research theme for competitive and other funds (4)：
環境配慮型薄膜材料に関する研究
極低エネルギーイオンビームを用いた炭素薄膜形成に関する研究
Study on Gowth of compound semiconductor thin film
Study on growth of carbon thin film by ultra-low energy ion beam deposition.
Papers (23)：
大野 秀樹. 放射線教育の充実に向けた取り組み. 東京工業高等専門学校研究報告書 46(1), pp.1-8. 2014
大野 秀樹. 好奇心をはぐくむ物理実験教室. 東京工業高等専門学校研究報告書 42(2), pp.49-51. 2011
大野 秀樹. 授業アンケートに潜む危険-学生の授業に対するニーズとアンケート-. 高専教育 33, pp.359-364. 2010
大野 秀樹. 課外物理実験教室の試行について -低学年の学生に物理への興味を引き起こす試み-. 東京工業高等専門学校研究報告書 40(1), pp.63-70. 2009
大野 秀樹. テクノガールズ!-事業の成果報告と将来への展望-. 東京工業高等専門学校研究報告書 40(1), pp.63-70. 2008
ｍore...
MISC (21)：
Y Honda, M Takei, H Ohno, S Shida, K Goda. Light-emitting Si films formed by neutral cluster deposition in a thin O-2 gas. JOURNAL OF LUMINESCENCE. 2005. 113. 3-4. 279-284
M Nakamura, H Ohno, S Murakami. Formation of the 1.014 eV photoluminescence Cu center in Cu-implanted silicon crystals and the center's model. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS. 2004. 43. 11B. L1466-L1468
M Nakamura, H Ohno, S Murakami. Formation of the 1.014 eV photoluminescence Cu center in Cu-implanted silicon crystals and the center's model. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS. 2004. 43. 11B. L1466-L1468
JA Van den Berg, DG Armour, S Zhang, S Whelan, H Ohno, TS Wang, AG Cullis, EHJ Collart, RD Goldberg, P Bailey, et al. Characterization by medium energy ion scattering of damage and dopant profiles produced by ultrashallow B and As implants into Si at different temperatures. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2002. 20. 3. 974-983
JA Van den Berg, DG Armour, S Zhang, S Whelan, H Ohno, TS Wang, AG Cullis, EHJ Collart, RD Goldberg, P Bailey, et al. Characterization by medium energy ion scattering of damage and dopant profiles produced by ultrashallow B and As implants into Si at different temperatures. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B. 2002. 20. 3. 974-983
ｍore...
Books (10)：
ビジュアルアプローチ 基礎物理問題集
森北出版 2013
ビジュアルアプローチ 基礎物理(下巻)
森北出版 2013
ビジュアルアプローチ 基礎物理(上巻)
森北出版 2013
高専テキストシリーズ 物理問題集
森北出版 2013
高専テキストシリーズ 物理(下巻)
森北出版 2013
ｍore...
Works (1)：
-
2000 -
Association Membership(s) (2)：
応用物理学会
, 日本物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in
researchmap
.
For details, see here
.
Return to Previous Page
TOP
BOTTOM
