Art

J-GLOBAL ID：200902000063729983   Reference number：92A0000431

PACVD fluorinated silicon nitride films deposited from SiF₄/NH₃ gas mixtures.

Author (5)： CASTRO A (Univ. Autonoma C-XII, Madrid, ESP) ,  GASSET M (Univ. Autonoma C-XII, Madrid, ESP) ,  GOMEZ-ALEIXANDRE C (Univ. Autonoma C-XII, Madrid, ESP) ,  SANCHEZ O (Univ. Autonoma C-XII, Madrid, ESP) ,  ALBELLA J M (Univ. Autonoma C-XII, Madrid, ESP)
Material： Low Energy Ion Beam and Plasma Modification of Materials  (Low Energy Ion Beam Plasma Modif Mater)
Page： 321-326  Publication year： 1991 
JST Material Number： K19910638  ISBN： 1-55899-117-4  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： NH3